Intins - Nhà Phân Phối Độc Quyền Ocean Optics tại Việt Nam
  • sales@intins.vn
  • 02432045963

Giám sát plasma nhờ quang phổ kế kiểu mô đun độ phân giải cao

Nguyễn Ngọc Lan Anh - 28/03/2023

Đây là quang phổ kế giám sát sự thay đổi phát xạ plasma Argon sau khi các loại khí khác được bổ sung vào trong buồng plasma phản ứng kín. Các đặc tính thu được từ kết quả đo đó có thể được sử dụng để giám sát quy trình plasma.
 
Bối cảnh
Plasma là một trạng thái giống như khí được cung cấp năng lượng, trong đó một phần nguyên tử đã bị kích thích hoặc bị ion hóa tạo thành các điện tử và ion tự do. Khi điện tử của các nguyên tử bị kích thích trở về trạng thái cơ bản, plasma phát ra ánh sáng ở các bước sóng đặc trưng cho các nguyên tử có trong plasma. Quang phổ thu được của ánh sáng phát ra được sử dụng để xác định thành phần của plasma. Plasma được hình thành bằng cách sử dụng một loạt các phương pháp năng lượng cao để ion hóa các nguyên tử bao gồm nhiệt, tia laser công suất cao, vi sóng, điện và tần số vô tuyến.
 
Plasma được sử dụng trong các ngành công nghiệp bao gồm sản xuất chất bán dẫn cho các ứng dụng như phân tích nguyên tố, lắng đọng màng mỏng, khắc plasma và làm sạch bề mặt. Việc giám sát chính xác các quy trình dựa trên plasma có thể giúp giảm thiểu ô nhiễm đĩa bán dẫn, cải thiện chất lượng và tối ưu hóa năng suất sản xuất.

 
Giám sát Plasma
Giám sát plasma thông qua phổ phát xạ đo được cho mẫu plasma có thể cung cấp kết quả phân tích nguyên tố chi tiết và xác định các thông số plasma quan trọng cần thiết để kiểm soát quá trình dựa trên plasma. Cường độ sóng của các vạch phát xạ xác định các nguyên tố có trong plasma, cường độ vạch phát xạ được sử dụng để định lượng mật độ hạt còn mật độ điện tử trong thời gian thực để điều khiển quá trình.
 
Các thông số bao gồm hỗn hợp khí, nhiệt độ plasma và mật độ hạt là rất quan trọng để kiểm soát quá trình plasma. Những thay đổi đối với các tham số này thông qua việc đưa các loại khí hoặc hạt khác nhau vào buồng plasma sẽ làm thay đổi các đặc tính của plasma, tác động đến tương tác plasma-chất nền. Khả năng giám sát và kiểm soát plasma trong thời gian thực giúp cải thiện các quá trình và kết quả thu được.
 
Ví dụ, giám sát plasma là quan trọng để kiểm soát quá trình quang khắc dựa trên plasma. Trong ngành công nghiệp bán dẫn, đĩa bán dẫn được chế tạo và điều khiển bằng kỹ thuật in thạch bản. Quang khắc là một công đoạn chính của quá trình này, trong đó vật liệu có thể được xếp thành lớp với độ dày rất chính xác. Khi các lớp được khắc trên bề mặt tấm đĩa bán dẫn, giám sát plasma được sử dụng để theo dõi quá trình quang khắc qua các lớp wafer và xác định khi nào plasma đã khắc xong một lớp và chuyển đến lớp tiếp theo. Bằng cách giám sát các đường phát xạ do đĩa bán dẫn tạo ra, quá trình quang khắc có thể được giám sát một cách chính xác. Việc phát hiện điểm cuối này rất quan trọng đối với việc sản xuất vật liệu bán dẫn sử dụng quy trình quang khắc dựa trên plasma.

 
 
Các hệ thống giám sát Plasma
Có thể giám sát plasma nhờ hệ thống kiểu mô đun, linh hoạt, sử dụng quang phổ kế độ phân giải cao như dòng HR series hoặc Maya2000 Pro của Ocean Insight (loại sau là lựa chọn phổ biến cho các loại khí UV). Trong trường hợp hệ thống mô đun, có thể kết hợp một quang phổ kế HR với sợi cáp quang chống phân cực để thu được dữ liệu phát xạ định tính từ plasma được hình thành trong buồng. Nếu cần phải đo định lượng, người dùng có thể thêm thư viện quang phổ của bên thứ ba để kết hợp dữ liệu và nhanh chóng xác định các vạch, đỉnh và dải phát xạ chưa biết.
 
Một lưu ý quan trọng khi theo dõi plasma hình thành trong buồng chân không là phần kết nối giữa buồng plasma với bên ngoài. Các thành phần của thiết bị có thể được đưa vào buồng chân không hoặc thiết lập để quan sát plasma thông qua một cổng quan sát. Các lỗ cấp chân không hoặc các sợi cáp quang tùy chỉnh được thiết kế để chịu được các điều kiện khắc nghiệt trong buồng có thể được sử dụng để kết nối các thành phần vào buồng plasma.
 
Để theo dõi plasma qua cổng quan sát, có thể cần đến phụ kiện để lấy mẫu như bộ điều chỉnh cosine hoặc thấu kính chuẩn trực tùy thuộc vào kích thước của trường plasma cần đo. Khi không có phụ kiện lấy mẫu, khoảng cách từ sợi quang đến plasma sẽ quyết định vùng được quan sát. Hãy sử dụng thấu kính chuẩn trực để có hình ảnh cục bộ hơn hoặc bộ điều chỉnh cosine để thu được trường ánh sáng trên 180 °.
 
 
Điều kiện đo
Quang phổ kế độ phân giải cao dòng HR được sử dụng để đo những thay đổi trong phát xạ plasma Argon khi các khí khác được đưa vào buồng plasma. Quang phổ kế thu thập dữ liệu quang phổ được thu thập đối với plasma chứa trong buồng phản ứng kín, sợi cáp quang và bộ điều chỉnh cosine thu thập phổ phát xạ thông qua một cửa sổ nhỏ bên ngoài buồng (Hình 1).
 

Hình 1: Một hệ thống quang phổ kế kiểu mô đun có thể được cấu hình để đo plasma trong buồng chân không.

 

Quang phổ kế độ phân giải cao HR2000 + (độ phân giải quang học FWHM ~ 1,1 nm) được cấu hình để đo phát xạcó bước sóng từ 200-1100 nm (Grating HC-1, SLIT-25) được kết nối với bộ điều chỉnh cosine (CC-3-UV) bằng sợi cáp quang chống phân cực (sợi cáp quang QP400-1-SR-BX). Một bộ phụ kiện lấy mẫu điều chỉnh cosine CC-3-UV được lựa chọn để thu thập dữ liệu từ buồng plasma và xử lý sự chênh lệch cường độ plasma và lỗi không đồng nhất của cửa sổ đo. Các tùy chọn lấy mẫu khác gồm có thấu kính chuẩn trực và lỗ hút chân không.
 
Kết quả
Quang phổ đo được đối với plasma Argon qua cửa sổ của buồng plasma được thể hiện trong Hình 2. Các vạch quang phổ mạnh từ 690-900 nm là các vạch phát xạ từ Argon trung tính (Ar I) với các vạch có cường độ thấp hơn từ 400-650 nm tạo ra từ các nguyên tử Argon được ion hóa đơn lẻ (Ar II). Phổ phát xạ trong Hình 2 là một ví dụ tuyệt vời về dữ liệu quang phổ được đo từ quá trình phát xạ plasma. Dữ liệu quang phổ này có thể được sử dụng để xác định một loạt các thông số quan trọng để theo dõi và điều khiển quy trình dựa trên plasma trong quy trình chế tạo bán dẫn.

Hình 2: Phát xạ của plasma Argon được đo qua cửa sổ buồng chân không.

 

Khí Hydro là khí thứ cấp có thể được thêm vào plasma Argon để thay đổi tính chất của plasma. Trong Hình 3, tác động của việc thêm khí hyđro vào plasma Argon được thể hiện khi nồng độ khí Hydro được cho vào buồng tăng dần. Khả năng của khí Hydro trong việc thay đổi các đặc tính của plasma Argon được thể hiện rõ ràng bằng sự giảm cường độ của các vạch Argon trong khoảng bước sóng 700-900 nm trong khi sự gia tăng nồng độ khí Hydro được phản ánh bằng sự xuất hiện các vạch Hydro trong khoảng 350-450 nm. Các quang phổ này chứng minh năng lực của phương pháp đo phát xạ plasma trong thời gian thực để đánh giá tác động của khí thứ cấp lên các đặc tính của plasma. Các thay đổi quang phổ quan sát được có thể được sử dụng để đảm bảo lượng khí thứ cấp tối ưu được cho vào buồng để đạt được các đặc tính plasma mong muốn.

 

Hình 3: Phát xạ plasma Argon được đo trong buồng chân không trước khi bổ sung khí bảo vệ.

 

Hình 4: Với việc bổ sung khí bảo vệ, các đặc tính phát xạ của Argon thay đổi đáng kể ở bước sóng dưới 400 nm và ở ~ 520 nm.

 

Kết luận
Quang phổ UV-Vis-NIR là một phương pháp mạnh mẽ để đo phát xạ plasma, cho phép phân tích nguyên tố và điều khiển chính xác các quá trình dựa trên plasma. Dữ liệu được hiển thị ở đây thể hiện năng lực của máy đo quang phổ kiểu mô đun để giám sát plasma. Quang phổ kế độ phân giải cao HR2000+ và phương pháp quang phổ mô đun hoạt động tốt để đo phổ phát xạ plasma qua cửa sổ của buồng plasma sau khi điều kiện buồng đã được điều chỉnh.


Có sẵn các tùy chọn hệ thống giám sát plasma bổ sung, bao gồm Maya2000 Pro, đây là thiết bị phản ứng tuyệt vời trong môi trường UV. Ngoài ra, các quang phổ kế và hệ thống con có thể được tích hợp vào các thiết bị khác và kết hợp với các công cụ học máy (Machine learning) để thực hiện những điều khiển phức tạp hơn trong các điều kiện của buồng plasma.